GasStation

Fourniture d’un système d’imagerie quantitative 3D sans marquage de cellules vivantes, par holotomographie ou technologie optique équivalente, avec module intégré de fluorescence multicanal. L’équipement doit permettre le suivi longitudinal de la morphologie, de la masse sèche et du volume cellulaires, ainsi que l’imagerie corrélative de structures ciblées.

Fourniture d’un incubateur et d’un compteur permettant le comptage des colonies en temps réel.

Fourniture d’un analyseur gravimétrique haute pression à microbalance pour mesurer la capacité d’adsorption à l’équilibre et la cinétique de sorption de gaz et de vapeur sur des matériaux poreux ou non poreux. L’appareil doit fonctionner en modes statique et dynamique, avec gaz humidifiés, à différentes températures et avec des mélanges multicomposants.

Fourniture et livraison de 34 dispositifs de mesure de débit pour différents fluides, destinés à la station d’épuration de l’ASET à Echallens et à ses stations de pompage environnantes. Le marché comprend l’étalonnage sur site et la mise en service.

Fourniture, livraison, étalonnage sur site et mise en service de 53 sondes de niveau pour la station d’épuration de l’ASET à Echallens et les stations de pompage du réseau environnant.

Fourniture d’un irradiateur gamma pour l’IRA.

Lieferung eines Röntgen-CT-Systems zur zerstörungsfreien In-situ-Charakterisierung heterogener Gesteins- und Bodenproben, Betonkernen sowie weiterer poröser Materialien in mehreren Phasen.

Beschaffung eines LC-MS-Systems mit Flüssigchromatographie, Triple-Quadrupol-Massenspektrometer und Probenanreicherung für on-/offline Probenaufnahme. Umfasst Lieferung, Montage, Inbetriebnahme, Personalschulung sowie Wartungs- und Serviceleistungen.

Lieferung von drei Ultra-Hochleistungs-Flüssigchromatographie-Systemen, jeweils gekoppelt mit einem Triple-Quadrupol-Massenspektrometer (LC-MS/MS).

Fourniture d’un équipement de gravure ionique réactive par plasma de métaux pour le Centre de MicroNanoTechnologie de l’EPFL. Le système doit traiter des photomasques carrés et des wafers standards de différentes dimensions, notamment pour graver des couches de chrome, limiter les contaminations croisées entre matériaux et permettre un contrôle flexible et robuste des procédés en environnement de recherche et développement. La facilité d’utilisation, la formation des utilisateurs et le support technique et procédés sont également pris en compte.