C-Level

Lieferung von drei Ultra-Hochleistungs-Flüssigchromatographie-Systemen, jeweils gekoppelt mit einem Triple-Quadrupol-Massenspektrometer (LC-MS/MS).

Fourniture d’un équipement de gravure ionique réactive par plasma de métaux pour le Centre de MicroNanoTechnologie de l’EPFL. Le système doit traiter des photomasques carrés et des wafers standards de différentes dimensions, notamment pour graver des couches de chrome, limiter les contaminations croisées entre matériaux et permettre un contrôle flexible et robuste des procédés en environnement de recherche et développement. La facilité d’utilisation, la formation des utilisateurs et le support technique et procédés sont également pris en compte.

Fourniture d’un module de puissance et de son système de commande associé, première étape du développement d’une alimentation haute tension (HVPS) destinée aux sources micro-ondes à gyrotron des centrales de fusion. La HVPS doit fonctionner en continu à sa puissance nominale et supporter un fonctionnement pulsé jusqu’à trois fois cette puissance.

Lieferung und Einrichtung von Laboreinrichtungen im Rahmen der Gesamtinstandsetzung und Umnutzung der Alten Militärkaserne Zürich zum Bildungszentrum für Erwachsene (BiZE) mit öffentlichen Erdgeschossnutzungen.

The B & R Nanotechnology Center (BRNC) at ETH Zurich invites tenders for the purchase of one (1) ultra-high resolution electron-beam lithography (EBL) system. The system will be used for a variety of research activities of internal and external users, ranging from the generation of high-precision structures at the nanometer level to the rapid exposure of complex structures over large areas. The scope includes delivery, installation, training and acceptance of the system.

Lieferung eines Rasterelektronenmikroskops (REM) mit Feldemissionsquelle, SE- und leistungsstarken BSE-Detektoren sowie einem energiedispersiven Röntgenspektrometer (EDS) mit grossem Detektorbereich (≥ 100 mm²). Optional panchromatischer und/oder monochromatischer Kathodolumineszenz-Detektor. Das System muss präzise quantitative EDS-Analysen mit Matrixkorrektur (ZAF, phi-rho-z) ermöglichen, eine Probenkammer für mindestens drei petrographische Dünnschliffe und sechs Rundproben bieten sowie programmierbar sein für automatisierte Analysereihen über 24 Stunden.