Tenders for Sewage, refuse, cleaning and environmental services

Folgende Maßnahmen für Haus 1, 2 und 3 sind vorgesehen: - Bauendreinigung Wohnungen - Bauendreinigung Gemeinschaftsräume - Bauendreinigung Technikräume - Bauendreinigung Treppenhäuser - Bauendreinigung Außenanlage

Baureinigung BAII Mengen ca.: Lino-Boden reinigen und einlassen 1.750 m² Fensterflächen innen und außen reinigen 320 m² Geländer + Handlauf reinigen 15 m Türen (Oberflächen HPL, Glas, Alu) beidseitig reinigen 180 m² Einbauschränke HPL beschichtet H ca. 2,5 m reinigen 120 lfm Schülerstühle + Tische reinigen 270 Stk

Unterhalts-, Grund- und Glasreinigung in 39 Standorten

Grund- und Unterhaltsreinigung folgender 12 Objekte: Grundschule Bruchmühlen, OGS Bruchmühlen, Zweifachsporthalle Grundschule Bruchmühlen, Jugendtreff, Umkleiden Bruchmühlen, Bauhof/Umweltbetrieb, Grundschule Am Wiehen, Einfachsporthalle Grundschule Am Wiehen, OGS Grundschule Am Wiehen, Mediathek Grundschule Am Wiehen, Gesamtschule Rödinghausen, Dreifachsporthalle Gesamtschule.

Reinigung der verschiedenen Raumgruppen im Reinigungsplan im Anhang. In der jeweiligen Berechnung der Flächen oder Küchen/Toiletten werden 251 Arbeitstage jährlich als eine durchschnittliche Anzahl unterstellt.

Gebäudeinnenreinigung inkl. der Arbeitsplätze sowie Sonderreinigungen für das Amtsgericht Halberstadt, Staatsanwaltschaft Magdeburg (Zweigstelle Halberstadt) und den Sozialen Dienst der Justiz Halberstadt.

Rahmenvereinbarung für Glas- und Innenglasreinigung in Verwaltungen, Schulen, Kindertagesstätten sowie Sportstätten in Wuppertal Uellendahl.

Unterhaltsreinigung für das Dienstgebäude in Abensberg und das Forstrevier in Siegenburg. Grundreinigungsfläche rund 1.800 m², Jahresreinigungsfläche rund 154.000 m².

Grundreinigung und Unterhalt der Räumlichkeiten des Hortes Kinderkiste (ca. 2.838 m² p.a.)

Unterhalts- und Glasreinigungsleistungen für Dienstliegenschaft mit ca. 9.045,07 m² Fußbodenfläche und jährlicher Reinigungsfläche von ca. 627.709,83 m². Sicherheitsüberprüfung (Ü1) erforderlich.